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Lucia Romero busca lo saturado, la estampación y el color, mientras que su compañera Cindy Zheng se inclina por el orden, la limpieza y perfección. Este contraste y una buena mezcla de creatividad fue parte de lo que las dos jóvenes imprimieron -literalmente- en seis outfits que presentarán en una pasarela de moda en New York.
Su visita a la gran manzana se debe a que resultaron ganadoras del primer lugar del concurso que realizó en Centroamérica la firma Epson, donde se buscaba al mejor talento que lograra unir de forma muy creativa la moda y la tecnología.
Romero y Zheng, estudiantes del programa internacional de moda de la universidad Véritas, crearon doce atuendos, de los cuales seis lograron ingresar al concurso y serán expuestos en la pasarela "Digital Couture Proyect Epson" en New York en el marco de la semana de la moda.
La colección Tlamacazqui -nombre de un dios Chorotega- está inspirada en los antiguos diseños precolombinos y en los colores de los atardeceres (rojos y naranjas, como acento usaron el azul, el morado y el verde).
"Nosotras ya estábamos preparadas para un reto como este. Empezamos a trabajar bajo el concepto de sellos precolombinos como identidad costarricense, ellos son la base del diseño básico y gráfico contemporáneo", comentó Romero.
Para concretar toda esta creatividad decidieron implementar la tecnología de sublimación, la cual les permite crear estampados únicos diseñados de forma digital para luego imprimirlos en telas no naturales, esto sin que pierda la textura o el color del formato original.
El único outfit que ya tienen listo incluye una gabardina con efecto 3D creada con base en telas razo y organza; se acompaña de un pantalón sublimado en scuba y una blusa lisa en el mismo material. Además incorporaron detalles de acabado a mano y pedrería.
En este atuendo, según las diseñadoras, lograron vender la riqueza de colores, marcar los sellos precolombinos y cumplir con las características de una colección de otoño e invierno.
"Ellas lograron un diseño estratégico, pensado en más que solo ver lo que se pone. Pensaron en en un potencial mercado, en que sea usable y mercadeable", comentó Martín Rodríguez, director de la carrera de modas de la Universidad Véritas.
Las diseñadoras estarán en New York en febrero del 2015. De regreso continuarán con el proyecto de su marca Dual con la que aseguran expondrán prendas con colores llamativos, sublimadas y que incorporen identidad costarricense.
"Sí hay talento tico y es necesario que los costarricenses crean en ello", concluyó Romero.
